全球先進半導體技術領導品牌三星電子,在其位於美國加州聖荷西的裝置解決方案(Device Solutions)總部舉行的年度「三星晶圓代工論壇」(SFF)上,揭曉最新的晶圓代工創新方案,並概述其對AI紀元的未來願景。
三星以「賦能AI革命」(Empowering the AI Revolution)為題,在本屆論壇發表強化版製程技術路線圖,包括SF2Z和SF4U兩個創新節點,以及結合晶圓代工、記憶體和先進封裝(AVP)事業獨特優勢的Samsung AI 解決方案整合式平台。
三星電子總裁暨晶圓代工事業部負責人Siyoung Choi博士表示:「在眾多技術圍繞AI持續發展之際,兼具高效能與低功耗的半導體成為技術應用面的重要關鍵。除了專為AI晶片優化且通過驗證的GAA製程,我們亦計劃推出用於高速、低功耗數據處理的整合式共封裝光學(CPO)技術,藉由一站式AI解決方案,助力客戶在變革時代中成長茁壯。」
Arm執行長Rene Haas、Groq執行長Jonathan Ross等多位傑出的產業思想領袖,於本屆論壇輪番上台發表演說,強調他們為迎接全新AI挑戰之際與三星建立的強大盟友關係。約有30家夥伴廠商共同參展,進一步彰顯全美晶圓代工生態圈的熱絡合作。
以先進的製程技術路線圖,為客戶AI方案注入動力
三星發表SF2Z和SF4U兩項全新的製程節點,強化其領先的製程技術路線圖。
最新的2奈米製程SF2Z採用優化的晶背供電網路(BSPDN)技術,將電軌建置於晶圓背面,有效解決電源與訊號線的資源排擠問題。與第一代2奈米節點的SF2相比,將BSPDN技術導入SF2Z不僅能改善功耗、效能和面積(PPA),還能顯著減少電壓下降(IR drop)、強化高效能運算(HPC)設計效能。SF2Z預計於2027年量產。
而SF4U則是高價值的4奈米更新版,其藉由光學收縮改良PPA,預定於2025年量產。
三星強調其SF1.4(1.4奈米)的籌備工作進展順利,將如期實現性能表現和良率目標,預計將於2027年進入量產階段;同時強調其對超越摩爾定律的堅定承諾,並正透過材料與結構上的創新,積極形塑1.4奈米以下的未來製程技術。
持續提升GAA成熟度
隨著AI新紀元來臨,諸如環繞式閘極(GAA)的架構性改良,已成為滿足功耗和效能需求的要素。在本屆SFF論壇上,三星強調自家GAA技術的成熟度,視其為AI的關鍵驅動技術。
三星GAA製程已邁入量產的第三年,在良率和效能方面持續提升成熟度。奠基於深厚的GAA生產經驗,三星計畫於今年下半年量產第二代3奈米製程(SF3),並將GAA應用於未來的2奈米製程。
自2022年以來,三星GAA產量持續穩步成長,有望在未來幾年大幅擴展。
一站式Samsung AI 解決方案強調企業跨域合作
一站式AI平台Samsung AI 解決方案是本屆論壇的另一亮點,其為三星晶圓代工、記憶體和AVP等事業部的合作結晶。
三星整合各事業部的獨特優勢,提供高效能、低功耗和高頻寬的解決方案,並能根據客戶的特定AI需求量身訂製。
企業跨域合作亦能簡化供應鏈管理(SCM)並縮短上市時程,進而將總周轉時間(TAT)顯著縮短20%。
三星計劃在2027年推出全方位、CPO整合式AI解決方案,旨在為客戶提供一站式AI解決方案。
以涵蓋AI與主流技術的均衡方案組合,實現客戶和應用的多元化發展
三星在拓展多元化客群和應用領域方面取得長足的進展。
得益於三星過去一年來與客戶的密切合作,旗下晶圓代工事業部AI銷售額大幅成長80%,反映三星為滿足快速變遷的市場需求,努力不懈的堅毅決心。
除了先進的製程節點,三星亦提供專業級和8吋晶圓衍生產品,不僅在PPA上持續改良,並具備強大的成本競爭優勢。憑藉均衡的技術方案組合,三星展現全方位的實力,因應汽車、醫療、穿戴式裝置、IoT應用等領域的客戶需求。
融合AI和技術,推動晶圓代工生態圈的共生共榮
三星延續SFF盛事的話題熱度,於6月13日舉辦年度Samsung Advanced Foundry Ecosystem(SAFE)論壇。該論壇以「AI:探索可能性和未來」(AI: Exploring Possibilities and Future)為題,作為生態圈夥伴討論客製技術與方案的交流平台。
在本屆論壇上,西門子執行長Mike Ellow、AMD副總裁Bill En、Celestial AI執行長David Lazovsky等業界領袖,針對晶片和系統設計技術的未來,提出個人獨到的見解。
繼去年成立MDI聯盟(Multi-Die Integration Alliance)後,本屆論壇亦舉辦首場MDI聯盟研討會。三星與聯盟夥伴就共同發展機會、具體合作計畫展開廣泛討論,並聚焦2.5D和3D IC設計以開發全方位的解決方案。上述活動皆進一步深化盟友關係,持續朝共同願景邁進。